抛光是完成诸如切割或磨削以提供光滑表面的预处理的过程。可以提高诸如表面纹理（表面粗糙度），尺寸精度，平面度和圆度之类的几何形状的精度。
抛光的方法大致分为两类：
一种是通过将硬而细的砂轮固定到金属上的"固定磨粒加工方法"，另一种是"自由磨粒加工方法"，其中将砂粒与液体混合。
1，机械抛光。机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。光学镜片模具常采用这种方法。
2，化学抛光。 化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备，可以抛光形状复杂的工件，可以同时抛光很多工件，效率高。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。
3，电解抛光。 电解抛光基本原理与化学抛光相同，即靠选择性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。
