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半导体硅与氧气反应

   来源:秀美库    阅读: 1.64W 次
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半导体硅与氧气反应

硅和氧气反应的化学方程式是SiH4+3O2=SiO2+2H2,硅是一种化学元素,化学符号是Si,旧称矽。原子序数14,相对原子质量28.0855,有无定形硅和晶体硅两种同素异形体,属于元素周期表上第三周期,IVA族的类金属元素。

硅也是极为常见的一种元素,然而它极少以单质的形式在自然界出现,而是以复杂的硅酸盐或二氧化硅的形式,广泛存在于岩石、砂砾、尘土之中。硅在宇宙中的储量排在第八位。在地壳中,它是第二丰富的元素,构成地壳总质量的26.4%,仅次于第一位的氧(49.4%)。

二氧化硅硅与氧气反应 条件:把硅研磨后加热 现象:硅会燃烧,生成白烟硅的燃烧生成的二氧化硅会阻碍氧气与硅接触,使得反应减慢.硅与氧气和水反应的生成硅酸和碳酸钠。。。。

硅与氧气反应的方程式是Si+O2=SiO2,硅(台湾,香港称矽xī)是一种化学元素,它的化学符号是Si,旧称矽,原子序数14,相对原子质量28.0855。硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅,短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。

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